特許
J-GLOBAL ID：200903003057233430
感光性樹脂組成物、感光性エレメント、感光性積層体及びフレキシブルプリント板の製造法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
若林 邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-075796
公開番号（公開出願番号）：特開平11-271967
出願日： 1998年03月24日
公開日（公表日）： 1999年10月08日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 フォトリソグラフィーによりパターンを効率良く形成でき、かつ、硬化物が耐折性、はんだ耐熱性、耐溶剤性、密着性及び難燃性に優れ、フィルム上への塗布作業性に優れ、耐電食性に優れ、環境性にも優れた感光性樹脂組成物を提供する。【解決手段】 (A)アミド結合、オキシアルキレン骨格及びカルボキシル基を有する樹脂、(B)エチレン性不飽和基を有する光重合性化合物、(C)光重合開始剤及び(D)特定の芳香族リン酸エステルを含有してなる感光性樹脂組成物、この感光性樹脂組成物の層とこの層を支持する支持体フィルムとを有する感光性エレメント、フレキシブルプリント板用基板の表面に前記感光性樹脂組成物の層を有する感光性積層体並びにこの感光性積層体を活性光で像的に照射し、現像することによりフレキシブルプリント板用基板表面に感光性樹脂組成物のパターンを形成することを特徴とするフレキシブルプリント板の製造法。
請求項（抜粋）：
(A)アミド結合、オキシアルキレン骨格及びカルボキシル基を有する樹脂、(B)エチレン性不飽和基を有する光重合性化合物、(C)光重合開始剤及び(D)下記の一般式(I)【化1】(式中R1は、ジヒドロキシベンゼンから2個のヒドロキシル基を除いた2価の残基又は2,2-ジ(p-ヒドロキシフェニル)プロパンから2個のヒドロキシル基を除いた2価の残基を示し、R2及びR3は各々独立して水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を示し、R2及びR3の少なくとも一方は炭素数1〜4のアルキル基である)で表される芳香族リン酸エステルを含有してなる感光性樹脂組成物。
IPC (8件)：
G03F 7/027 502
, B32B 7/02 103
, B32B 27/18
, C09D163/00
, G03F 7/004 501
, G03F 7/004 512
, G03F 7/037
, H05K 3/28
G03F 7/027 502
, B32B 7/02 103
, B32B 27/18 B
, C09D163/00
, G03F 7/004 501
, G03F 7/004 512
, G03F 7/037
, H05K 3/28 D
