特許

J-GLOBAL ID：200903003057742725

ポジ型レジスト組成物

発明者： 藤森 亨
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  栗宇 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-204340
公開番号（公開出願番号）：特開2004-045856
出願日： 2002年07月12日
公開日（公表日）： 2004年02月12日
要約：

【課題】PED安定性及びプロファイルに優れたポジ型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び(C)下記(CA)及び(CB)から選ばれる少なくとも1種の塩基性化合物、(CA)少なくとも1つの(C1)非イオン性含窒素塩基性化合物、及び、少なくとも1つの(C2)イオン性含窒素塩基性化合物からなる塩基性化合物、(CB)少なくとも2種の(C2)イオン性含窒素塩基性化合物からなる塩基性化合物、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、 (B)単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び (C)下記(CA)及び(CB)から選ばれる少なくとも1種の塩基性化合物、 (CA)少なくとも1つの(C1)非イオン性含窒素塩基性化合物、及び、少なくとも1つの(C2)イオン性含窒素塩基性化合物からなる塩基性化合物、 (CB)少なくとも2種の(C2)イオン性含窒素塩基性化合物からなる塩基性化合物、 を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (3件)：

G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

FI (3件)：

G03F7/039 601 ,  G03F7/004 501 ,  H01L21/30 502R

Fターム (13件)：

2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CC03 ,  2H025CC04 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17