特許
J-GLOBAL ID:200903003070583989
脂質二分子膜を半導体基板上に作製する方法、その方法により作製された半導体基板、およびその基板を用いたデバイス
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
谷 義一
, 阿部 和夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-090278
公開番号(公開出願番号):特開2005-274452
出願日: 2004年03月25日
公開日(公表日): 2005年10月06日
要約:
【課題】 密着性を持たせるための修飾層を半導体基板上に持たずに、有機の二分子膜を半導体基板上に直接作製すること。【解決手段】 修飾層を持たずに二分子膜を半導体基板上に直接作製させるため、その作製時の温度を制御し、その温度を二分子膜を形成している脂質の液晶転移温度以上にしている。修飾層を持たないため、二分子膜内に配置されるバイオセンサ(たんぱく質)と半導体基板との距離が近づき、そのためバイオセンサの微小な変化を電子デバイスで確実に捉えることができる。この効果は、半導体基板(特にシリコン基板)に形成されるので、酸化膜を除去することにより、酸化膜が無い分、距離が近付き、さらに顕著な効果として発現できるようになる。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
脂質二分子膜を形成する脂質を用いて水溶液中でベシクルを形成させ、
前記ベシクルを用いて酸化膜をもたない半導体基板上あるいは酸化膜を有する半導体基板の該酸化膜上に前記脂質二分子膜を直接固定化することを特徴とする、脂質二分子膜を半導体基板上に作製する方法。
IPC (5件):
G01N27/327
, G01N27/414
, G01N27/416
, H01L29/06
, H01L49/00
FI (6件):
G01N27/30 351
, H01L29/06 601N
, H01L49/00 Z
, G01N27/30 301K
, G01N27/46 341Z
, G01N27/46 336Z
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