特許
J-GLOBAL ID：200903003077922240
基板処理方法、その装置及び超音波発生装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小谷 悦司 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-318309
公開番号（公開出願番号）：特開平11-150092
出願日： 1997年11月19日
公開日（公表日）： 1999年06月02日
要約：
【要約】【課題】 処理液中で支持部材により支持された基板の表面全域に略均一に超音波を送波することができるようにする。【解決手段】 基板Wが支持部材123により支持された状態で処理液LQ中に浸漬される処理槽12、処理槽12の下部が貯留された伝播水に浸漬されて配置される貯留槽14、貯留槽14の内底部に配設された超音波振動体16、及び超音波振動体16の駆動を制御する発振制御部18を備える。超音波振動体16は、複数の超音波振動子が縦横に配列されて構成され、発振制御部18は、処理液LQ中の基板Wに向けて超音波振動子から超音波を送波させる一方、その送波方向を超音波振動子の振動面に対して揺動させるようにする。
請求項（抜粋）：
処理液中で支持部材により支持された基板に向けて超音波を送波することにより該基板を処理する基板処理方法であって、前記超音波を超音波振動体により前記基板の面方向に沿って送波する一方、その送波方向を該超音波振動体の振動面に対して揺動させるようにしたことを特徴とする基板処理方法。
IPC (2件)：
H01L 21/304 341
, B08B 3/12
H01L 21/304 341 T
, B08B 3/12 A
