特許

J-GLOBAL ID：200903003082494710

ヘキサヒドロチエノ[3,4-d]イミダゾール-2,4-ジオン類の製造法

発明者： 平田 紀彦 ,  宮本 泰延 ,  高橋 寿也
出願人/特許権者： 住友化学工業株式会社
代理人 (1件)： 久保山 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-036707
公開番号（公開出願番号）：特開平10-231298
出願日： 1997年02月20日
公開日（公表日）： 1998年09月02日
要約：

【要約】【課題】ビオチン等の中間体としてヘキサヒドロチエノ[3,4-d]イミダゾール-2,4-ジオン類の工業的に有利な製造法を提供すること。【解決手段】シス-1,3-ジベンジルヘキサヒドロフロ[3,4-d]イミダゾール-2,4-ジオン等とチオベンツアミド類を、塩基性物質と硫化水素の存在下に反応させ、シス-1,3-ジベンジルヘキサヒドロチエノ[3,4-d]イミダゾール-2,4-ジオン等を得る製造法。

請求項（抜粋）：

一般式(1)(式中、Rは、同一または相異なり、アルキル基、アルケニル基、アリール基またはアラルキル基を示す。ここでアルキル基、アルケニル基、アリール基またはアラルキル基はそれぞれアルキル基、アルコキシル基、ニトロ基もしくはハロゲン原子で置換されていてもよい。)で示されるヘキサヒドロフロ[3,4-d]イミダゾール-2,4-ジオン類とチオアミド類とを、硫化水素と塩基性物質の存在下に反応させることを特徴とする一般式(2)(式中、Rは、前記と同じ意味を表わす。)で示されるヘキサヒドロチエノ[3,4-d]イミダゾール-2,4-ジオン類の製造法。

IPC (3件)：

C07D495/04 103 ,  B01J 27/04 ,  C07B 61/00 300

FI (3件)：

C07D495/04 103 ,  B01J 27/04 X ,  C07B 61/00 300