特許

J-GLOBAL ID：200903003101499515

半導体光触媒反応装置及び電解装置からなる水素の製造装置

発明者： 佐山 和弘 ,  荒川 裕則 ,  岡部 清美 ,  草間 仁
出願人/特許権者： 経済産業省産業技術総合研究所長
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-391356
公開番号（公開出願番号）：特開2001-233602
出願日： 1997年11月27日
公開日（公表日）： 2001年08月28日
要約：

【要約】【課題】太陽エネルギーを用いる水素を電解製造する装置において、電解電圧を大幅に減少させ、システム全体のコストおよびエネルギー収支を大幅に改善する装置の提供。【解決手段】鉄(III)イオンを含む水溶液の存在下に、半導体光触媒の表面に、光照射して酸素を発生させ、鉄(III)イオンを鉄(II)イオンに還元する半導体光触媒反応装置と、得られた鉄(II)イオンを含む水溶液を酸化して鉄(III)イオンとし、水素を発生させる電解装置、及び発生する鉄(III)イオンを含有する水溶液を半導体光反応装置に供給する装置からなることを特徴とする水素の製造装置

請求項（抜粋）：

鉄(III)イオンを含む水溶液の存在下に、半導体光触媒に、光照射して酸素を発生させ、鉄(III)イオンを鉄(II)イオンに還元する半導体光触媒反応装置と、得られた鉄(II)イオンを含む水溶液を酸化して鉄(III)イオンとし、水素を発生させる電解装置、及び発生する鉄(III)イオンを含有する水溶液を半導体光反応装置に供給する装置からなることを特徴とする水素の製造装置。

IPC (7件)：

C01B 3/04 ,  B01J 21/06 ,  B01J 23/30 ,  B01J 23/652 ,  B01J 35/02 ,  C01B 13/02 ,  C25B 1/04

FI (7件)：

C01B 3/04 R ,  B01J 21/06 M ,  B01J 23/30 M ,  B01J 35/02 J ,  C01B 13/02 B ,  C25B 1/04 ,  B01J 23/64 103 M

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 特開昭51-088492
  
• 光エネルギーの変換方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-241506   出願人：工業技術院長