特許

J-GLOBAL ID：200903003101588275

処理装置

発明者： 飽本 正巳 ,  後藤 一幸 ,  伊藤 康司 ,  奥村 勝弥
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社 ,  東京エレクトロン九州株式会社 ,  株式会社東芝
代理人 (1件)： 中本 菊彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-129925
公開番号（公開出願番号）：特開平5-304087
出願日： 1992年04月24日
公開日（公表日）： 1993年11月16日
要約：

【要約】【目的】 圧送ポンプや加圧用ガスを用いずに処理液を被処理体に所定量ずつ供給することで、パーティクルや気泡の処理液中への混入を防止し、処理液の供給配管を簡素化してメンテナンス性を向上させる。【構成】 密閉構造のボトル25を処理液供給ノズルより高所に保持すると共に、ボトル25の内部を導入配管26を介して液容器28に接続する。ボトル25内の上部を三方弁31を介して負圧源に接続する。液容器28から処理液を負圧吸引してボトル25内に一旦貯蔵し、その後、ボトル25内の処理液を処理液供給ノズルから所定量ずつ被処理体の表面に供給し被着する。

請求項（抜粋）：

液溜用容器に収容された処理液を供給配管を介してノズルから所定量ずつ被処理体の表面に供給する処理装置において、上記液溜用容器を上記ノズルより高所に保持すると共に、上記液溜用容器を配管を介して上記液溜用容器とは別の液容器に接続する一方、上記液溜用容器を負圧源に接続してなることを特徴とする処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/16 502

FI (2件)：

H01L 21/30 361 L ,  H01L 21/30 361 C

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭62-211920
  
• 特開昭54-061476