特許

J-GLOBAL ID：200903003104843616

仮想製造支援設計方法及び仮想製造支援設計システム

発明者： 小島 東作 ,  野本 多津 ,  岩井 浩樹 ,  永見 速
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 武 顕次郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-339911
公開番号（公開出願番号）：特開平11-175577
出願日： 1997年12月10日
公開日（公表日）： 1999年07月02日
要約：

【要約】【課題】 実装製品の品質向上および短期製品開発を同時に満足して、最適品質設計を行うこと。【解決手段】 基板上に新規な電子部品を実装する実装製品を製造したときの不良現象について、実装製品のCAD計算システムと不良解析改定システムを用いて解析又は評価し、この解析又は評価された新規な実装部における不良現象について、所望の不良率の値を満足するように、実装製品における新規な実装部を設計する。

請求項（抜粋）：

製品を製造したときの製品の品質を、仮想製造支援設計システムを用いて解析又は評価し、この解析又は評価された量産製品の品質が所望の品質を満足するように、計算機上で、シミュレーションしながら設計することを特徴とする仮想製造支援設計方法。

IPC (4件)：

G06F 17/50 ,  B23P 21/00 307 ,  G06F 17/60 ,  H05K 3/34 512

FI (7件)：

G06F 15/60 666 P ,  B23P 21/00 307 Z ,  H05K 3/34 512 A ,  G06F 15/21 R ,  G06F 15/60 612 G ,  G06F 15/60 652 K ,  G06F 15/60 666 C