特許
J-GLOBAL ID：200903003105734055
フォトマスク及びそのマスクパターン設計方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
加藤 朝道
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-303844
公開番号（公開出願番号）：特開2002-107909
出願日： 2000年10月03日
公開日（公表日）： 2002年04月10日
要約：
【要約】【課題】細かなきざみでホールパターンの寸法および変形を補正することができるフォトマスク及びそのマスクパターン設計方法を提供すること。【解決手段】基板、ハーフトーン膜及び遮光膜を備えたフォトマスクにおいて、ハーフトーン領域は、少なくとも隣接し合う一のホールパターンと他のホールパターンとの間における領域のうち前記一のホールパターンの端面からこれに近い前記他のホールパターンの端面にかけて連続して有し、隣接し合う各ホールパターンの中心間を結ぶ直線に垂直な方向における前記ハーフトーン領域の幅は、前記隣接し合う各ホールパターンの中心間の距離に依存することを特徴とする。
請求項（抜粋）：
光を透過ないし反射する基板と、前記基板上に形成されるとともに、所定の位置に2以上のホールパターンを有するハーフトーン膜と、前記ハーフトーン膜上に形成されるとともに、前記ハーフトーン膜のホールパターンと対応する位置にホールパターンを有し、少なくとも隣接し合う一のホールパターンと他のホールパターンとの間の領域に空所であるハーフトーン領域を有する遮光膜と、を備えたフォトマスクであって、前記ハーフトーン領域は、少なくとも隣接し合う一のホールパターンと他のホールパターンとの間における領域のうち前記一のホールパターンの端面からこれに近い前記他のホールパターンの端面にかけて連続して形成され、隣接し合う各ホールパターンの中心間を結ぶ直線に垂直な方向における前記ハーフトーン領域の幅は、各ホールパターンのホール寸法を固定したときに、前記隣接し合う各ホールパターンの中心間の距離に依存することを特徴とするフォトマスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 1/08 A
, H01L 21/30 502 P
2H095BA01
, 2H095BB02
, 2H095BB31
, 2H095BC24
