特許
J-GLOBAL ID：200903003106115898
縮小投影露光装置及びその方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
船橋 国則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-332555
公開番号（公開出願番号）：特開平6-163356
出願日： 1992年11月17日
公開日（公表日）： 1994年06月10日
要約：
【要約】【目的】 ウエハ表面の膜厚が不均一であっても寸法が均一なパターンを形成することができ、かつ所望の領域のパターンの寸法を独立に変更することができるようにする。【構成】 照明光学系手段10より発生した露光光100を分割手段3により例えば2つに分割し、合成パターンを複数の領域に分割したパターンをそれぞれ描画した第1レチクル4、第2レチクル5に、分割された各分割光101、102を照射する。その後、これを通過した各分割光101、102の光強度を第1調整手段8、第2調整手段9で独立に調整し、さらに各分割光101、102を合成光学系手段で合成して合成パターンを形成する。そして合成パターンの露光光103を投影光学系手段に通して縮小し、ウエハ25上に前記各パターンがそれぞれ所定寸法に形成された合成パターンを投影する。
請求項（抜粋）：
露光光を発生する照明光学系手段と、前記露光光の焦点面に配置されかつパターンが描画されたレチクルと、該レチクルからの露光光を縮小する投影光学系手段とを備え、前記レチクル及び前記投影光学系手段に前記露光光を通過させて前記パターンをウエハ上に縮小投影する縮小投影露光装置において、前記露光光の光路上に配置され、かつ前記露光光を複数に分割する分割手段と、該分割手段で分割された各分割光の焦点面に配置されたレチクルと、該各レチクルを通過した各分割光の光路上に配置され、かつ各分割光の光強度を調整する調整手段と、該各調整手段を通過した各分割光の交差位置に配置され、かつ前記各分割光を合成して合成パターンを形成する合成光学系手段とを備えたことを特徴とする縮小投影露光装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
