特許
J-GLOBAL ID:200903003112450844

走査型露光装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 田辺 恵基
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-114782
公開番号(公開出願番号):特開平7-302754
出願日: 1994年04月28日
公開日(公表日): 1995年11月14日
要約:
【要約】【目的】本発明は走査型露光装置において、マスクと感光基板の相対的な位置関係を補正して露光する際のスループツトを従来に比して向上させる。【構成】露光開始位置に搬送中のマスク3と感光基板4から相対的な位置関係を予め検出する。露光の際には予め検出された位置情報を記憶手段11から読み出してマスク3と感光基板4との相対的な位置関係を補正する。これにより露光走査中にマスク3と感光基板4との相対的な位置関係の測定と補正とを同時に実行する従来の方法では平坦度の変化に予測できないような急峻な変化が含まれるマスク3と感光基板4が対象であつてもスループツトを低下させることなく、結像不良なく露光することができる。
請求項(抜粋):
マスクを照明し、該マスクの像を投影光学系を介して感光基板上に投影すると共に、前記マスクと前記感光基板とを前記投影光学系に対して走査させることにより、前記マスクの全面を前記感光基板上に露光する走査型露光装置において、前記マスクと前記感光基板との相対的な位置関係を検出する位置検出手段と、前記位置検出手段によつて得られた位置情報を記憶する記憶手段と、前記記憶手段から読み出した前記位置情報に基づいて前記マスクと前記感光基板間の相対的な位置関係を補正する位置補正手段と、前記マスクと前記感光基板が前記投影光学系の投影領域を通過して露光開始位置に搬送される際、前記位置検出手段によつて前記マスクと前記感光基板との相対的な位置関係を検出し、前記マスクと前記感光基板が前記露光開始位置に停止している際及び又は前記露光の際、前記位置補正手段によつて前記記憶手段から読み出した前記位置情報に基づいて前記マスクと前記感光基板との相対的な位置関係を補正する制御手段とを具えることを特徴とする走査型露光装置。
IPC (3件):
H01L 21/027 ,  G03B 27/54 ,  G03F 7/20 521
FI (2件):
H01L 21/30 518 ,  H01L 21/30 525 D
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • 特開平4-235559
  • 特開平2-272719
  • 特開平4-235559
全件表示

前のページに戻る