洗浄方法及び装置、露光装置、並びに、デバイス製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：藤元亮輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-365857
公開番号（公開出願番号）：特開2007-173344
出願日： 2005年12月20日
公開日（公表日）： 2007年07月05日
要約：

【課題】表面を酸化させることなく、光洗浄では除去できない有機物汚染を効果的、且つ、短時間で除去することができる洗浄方法及び装置を提供する。【解決手段】被洗浄物を洗浄する洗浄方法であって、前記被洗浄物を収納する処理室を減圧又は真空環境に維持するステップと、水素を含むガスを前記処理室に供給するステップと、前記ガスをプラズマ化するステップとを有し、プラズマ化された前記ガスによって前記被洗浄物を表面処理することを特徴とする洗浄方法を提供する。【選択図】図2

請求項１：

被洗浄物を洗浄する洗浄方法であって、前記被洗浄物を収納する処理室を減圧又は真空環境に維持するステップと、水素を含むガスを前記処理室に供給するステップと、前記ガスをプラズマ化するステップとを有し、プラズマ化された前記ガスによって前記被洗浄物を表面処理することを特徴とする洗浄方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , B08B 7/00

FI (2件)：

H01L21/30 514E , B08B7/00

Fターム (6件)：

3B116AA03 , 3B116AB43 , 3B116BC01 , 3B116CD11 , 5F046AA17 , 5F046CB01

引用特許：

出願人引用 (4件)

光学部品の洗浄方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-236201 出願人：株式会社ニコン
光学装置用部品の洗浄方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-362358 出願人：株式会社ニコン
光学部品の洗浄方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-036588 出願人：株式会社ニコン

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