特許

J-GLOBAL ID：200903003117816472

電解槽用ブスバー構造物

発明者： ビルタネン、 ヘンリ ,  ビルタネン、 イスモ ,  キビスト、 トゥオモ ,  マルッティラ、 トム
出願人/特許権者： オウトクンプ オサケイティオ ユルキネン
代理人 (1件)： 香取 孝雄
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-547285
公開番号（公開出願番号）：特表2002-513859
出願日： 1999年04月21日
公開日（公表日）： 2002年05月14日
要約：

【要約】本発明は、金属類の電解回収のための電解槽のブスバー構造物に適用される。この構造物は、電極間の空隙を容易に変えることができるように形成される。この構造物のすべての部分は、その槽の長手方向に一体化したプロファイルの形を成しており、その槽内の電極の支持用ラグは切り欠きされていない。

請求項（抜粋）：

電解槽のそれぞれの側壁(5)の上に配置され、金属の電解回収に使われる直列接続型の電解槽のブスバー構造物において、 前記槽の主ブスバー(6)は該槽の長手方向に、連続したふくらみ部(8、9)を複数有し、それらのふくらみ部の高さは異なり、一方の槽内の陽極の非切欠き支持用ラグ(4)を一方のふくらみ部で支持し、隣接する槽の陰極の非切欠きラグ(3)を他方のふくらみ部で支持するようにし、 該ブスバー構造物は、絶縁された連続する支持要素(11、12) を前記槽の長手方向に、かつ前記主ブスバーから絶縁して有し、主ブスバー上にはない電極の支持用ラグの端部を、主ブスバー上に支持されている当該電極の端部と同じ高さに支持するようにしていることを特徴とするブスバー構造物。

Fターム (2件)：

4K058DD09 ,  4K058FA15

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 特公昭49-017124
  
• 特公昭49-016685
  

審査官引用 (3件)

• 特公昭49-017124
  
• 特公昭49-017124
  
• 特公昭49-016685