特許
J-GLOBAL ID：200903003119823476
ピストンリング及びその形成法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
真田 雄造 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-352444
公開番号（公開出願番号）：特開平6-221437
出願日： 1993年12月29日
公開日（公表日）： 1994年08月09日
要約：
【要約】【目的】 高い耐すりきず性を持ち、しかも耐チッピング性にすぐれ、かつ十分な被覆厚さを持ち、かつ摩擦係数の低い面被覆を持つピストンリングを提供することにある。【構成】 ピストンリング20の基体26の外周面24にガス窒化層28を形成する。次いでこのガス窒化層28に窒化クロム面被覆30を形成する。ガス窒化層は、窒化クロム面被覆のチッピングを防止する極めて硬い基板として作用する。窒化クロム面被覆の損傷は又、前記の2層間の接着強さが増大するので最少になる。窒化クロム面被覆は、高い密度、低い摩擦係数、高い硬さ及び対応する高い耐すりきず性を持つ。ガス窒化層の表面の凹凸を除くように、ガス窒化層をラップ仕上げしかつつや出しする。
請求項（抜粋）：
外周面を持つ外表面を備えた大体において環状の基体と、この基体の少なくとも前記外周面に設けたガス窒化層と、少なくとも前記外周面において前記ガス窒化層に設けた窒化クロム面被覆と、を包含するピストンリング。
IPC (3件)：
F16J 9/26
, C23C 28/04
, F02F 5/00
