特許
J-GLOBAL ID:200903003125829990

シリコーンを含有する化粧料

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 遠山 勉 ,  松倉 秀実 ,  川口 嘉之
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-067970
公開番号(公開出願番号):特開2004-277299
出願日: 2003年03月13日
公開日(公表日): 2004年10月07日
要約:
【課題】メークアップ化粧料や汚れをしっかり取り除き、さらに続く化粧行為に影響を与えることのない洗浄用の化粧料を提供する。【解決手段】下記に示す一般式(1)で表されるシリコーンを含有することを特徴とする、洗浄用の化粧料。【化1】【選択図】 なし
請求項(抜粋):
下記に示す一般式(1)で表されるシリコーンを含有することを特徴とする、洗浄用の化粧料。
IPC (2件):
A61K7/02 ,  A61K7/50
FI (2件):
A61K7/02 A ,  A61K7/50
Fターム (23件):
4C083AB032 ,  4C083AC102 ,  4C083AC112 ,  4C083AC122 ,  4C083AC132 ,  4C083AC242 ,  4C083AC422 ,  4C083AC432 ,  4C083AC442 ,  4C083AC642 ,  4C083AC692 ,  4C083AC782 ,  4C083AD092 ,  4C083AD152 ,  4C083AD161 ,  4C083AD162 ,  4C083AD172 ,  4C083CC23 ,  4C083CC24 ,  4C083DD31 ,  4C083EE03 ,  4C083EE06 ,  4C083EE07
引用特許:
審査官引用 (10件)
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