特許
J-GLOBAL ID:200903003141176514
ローラミル制御方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
本庄 武男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-119464
公開番号(公開出願番号):特開平6-327990
出願日: 1993年05月21日
公開日(公表日): 1994年11月29日
要約:
【要約】【目的】 ローラミルの迅速かつ正確な制御を行いうるローラミル制御方法。【構成】 ローラミル10の操業状態を示す操業状態データy1 〜y3 とその制御因子の操作設定値x1 〜x4 との関係を予めモデル化しておき,ある操作設定値をこのモデルに適用することにより,このある操作設定値に対応するある操業状態データを求め,上記ある操業状態データが所望の値となるように上記ある操作設定値を調整する際の,上記モデルが上記操業状態の一例である製品粒子データを上記操作設定値の一例である風量及びロータ回転数を変数として表した一次式で記述されるモデル?@を含むように構成されている。上記構成によりローラミルの迅速かつ正確な制御を行うことができる。
請求項(抜粋):
ローラミルの制御因子の操作設定値を調整することにより上記ローラミルの操業状態を制御するローラミル制御方法であって,上記操業状態を示す操業状態データと上記操作設定値との相関関係を予めモデル化しておき,ある操作設定値を上記モデルに適用することにより上記ある操作設定値に対応するある操業状態データを求め,上記ある操業状態データが所望の値となるように上記ある操作設定値を調整するローラミル制御方法において,上記モデルが,上記操業状態データの一例である製品粒子データを上記操作設定値の一例である風量及びセパレータ回転数を変数として表した一次式を含むことを特徴とするローラミル制御方法。
IPC (4件):
B02C 15/00
, B02C 15/04
, B02C 25/00
, G05B 13/04
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