特許
J-GLOBAL ID：200903003168186457
粒子線加工用のガス送出システム
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石田 喜樹 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-502987
公開番号（公開出願番号）：特表2000-512809
出願日： 1997年05月28日
公開日（公表日）： 2000年09月26日
要約：
【要約】基板などの粒子線により加工中のワークに反応体を送出するための改良型ガス送出システムの装置および方法は、内部軸方向通路を備えた囲い壁型の集中器を用いる。流体反応体をワークへの送出するために軸方向通路に供給される。所望であれば反応体の送出と同時に、粒子線は軸方向通路を通過してワーク表面に衝突できる。
請求項（抜粋）：
基板の表面に流体材料を送出するための流体送出システムであって、 遠位部分を備えた延伸アームと、 上部開口部と下部開口部との間に延伸して内部を貫通する軸方向流体通路を形成する内部チャンバを備えた集中器であって、前記通路に対して横方向で前記アームの前記遠位部分に接続した集中器と、 前記内部チャンバを流体材料源に接続し、流体を前記内部チャンバに供給して基板表面への流体送出路を形成する流体送出手段と、を包含する流体送出システム。
IPC (2件)：
H01L 21/302
, H01J 37/305
H01L 21/302 Z
, H01J 37/305 A
