特許
J-GLOBAL ID：200903003175616122
シロキサングラフトセルロース誘導体を含有する化粧料及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山本 亮一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-293982
公開番号（公開出願番号）：特開平9-136901
出願日： 1995年11月13日
公開日（公表日）： 1997年05月27日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 高湿度条件下では空気中の水分を吸収し、粘着性が増加し、ヘアフォームなどの場合は髪がベトツキ、櫛通りが悪くまた洗髪時には整髪剤が洗い落としにくいなどの従来の問題点を解決し、撥水性、潤滑性、光沢付与性、皮膜形成性、生分解性、安全性などの特性を併せ有する皮膜形成剤。【解決手段】 皮膜形成剤としてシロキサングラフトセルロース誘導体を含有する化粧料及びシロキサングラフトセルロース誘導体が水酸基を有する熱可塑性セルロース誘導体を溶融条件下においてイソシアネート基含有オルガノポリシロキサンと反応させて得られる上記の化粧料の製造方法。
請求項（抜粋）：
皮膜形成剤として下記一般式(化1)【化1】[ここに Cell-はセルロースまたはセルロース誘導体のグルコース残基を、R1は炭素数1〜10の2価の炭化水素基を表し、R2、R3、R4、R5、R6、R7はそれぞれ同一または互いに相異なる炭素数1〜10の1価の炭化水素基を表わし、R8、R9、R10 はそれぞれ同一または互いに相異なる炭素数1〜10の1価の炭化水素基または-OSiR11R12R13で示されるシロキシ基を(R11 、R12 、R13 は炭素数1〜10の1価の炭化水素基)、mは0〜5の整数、nは3〜200 の数、x、yはシロキサンがセルロース誘導体に対し1〜30重量%含有されるような値]で示されるシロキサングラフトセルロース誘導体を含有する化粧料。
IPC (4件)：
C08B 3/14
, A61K 7/00
, A61K 7/11
, C08L 1/10 LAC
C08B 3/14
, A61K 7/00 J
, A61K 7/11
, C08L 1/10 LAC
