特許

J-GLOBAL ID：200903003199159261

ホウ素濃度の高いホウ素溶離液の生成方法

発明者： 早川 智 ,  木谷 仁紀
出願人/特許権者： 日本電工株式会社
代理人 (1件)： 白木 大太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-303932
公開番号（公開出願番号）：特開2002-102852
出願日： 2000年10月03日
公開日（公表日）： 2002年04月09日
要約：

【要約】【課題】 少ない通液量でしかも高濃度のホウ素溶離液を生成回収することのできるホウ素溶離液の生成方法を提供する。【解決手段】 ホウ素含有排水をOH型に調整した陰イオン交換樹脂に通液してホウ素を該陰イオン交換樹脂に吸着させる第1工程と、前記第1工程で得られたホウ素吸着樹脂にアルカリ溶液を通液することによってホウ素を溶離するとともに前記陰イオン交換樹脂をOH型に再生する第2工程とを順次行う。

請求項（抜粋）：

ホウ素含有排水をOH型に調整した陰イオン交換樹脂に通液してホウ素を該陰イオン交換樹脂に吸着させる第1工程と、前記第1工程で得られたホウ素吸着樹脂にアルカリ溶液を通液することによってホウ素を溶離するとともに前記陰イオン交換樹脂をOH型に再生する第2工程とを順次行うことを特徴とするホウ素溶離液の生成方法。

IPC (3件)：

C02F 1/42 ZAB ,  C02F 1/42 ,  B01J 41/04

FI (3件)：

C02F 1/42 ZAB E ,  C02F 1/42 B ,  B01J 41/04 J

Fターム (8件)：

4D025AA09 ,  4D025AB33 ,  4D025BA09 ,  4D025BA11 ,  4D025BA14 ,  4D025BA15 ,  4D025BA16 ,  4D025BB02

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭60-216882
  
• 特開昭52-038772
  
• 特開昭60-216882
  
• 特開昭52-038772