特許
J-GLOBAL ID：200903003199612110
シリコンウエーハ表面金属不純物の分析方法およびその前処理方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
好宮 幹夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-100348
公開番号（公開出願番号）：特開平11-281542
出願日： 1998年03月26日
公開日（公表日）： 1999年10月15日
要約：
【要約】【課題】 金属不純物のイオン化傾向の大きさに関わらず、シリコンウェーハ表面の微量な金属不純物を十分に分解回収でき、かつ、気相分解法においてウェーハ表面上を走査した薬液を希釈せずに分析装置に投入しても、分析装置を安定状態で長時間稼働させ、分析精度や感度が低下することのないシリコンウェーハ表面金属不純物の分析方法とその前処理方法を提供する。【解決手段】 少なくともフッ酸蒸気によりシリコンウエーハ表面の自然酸化膜を分解した後、ウエーハ表面に薬液を滴下し、不純物分析領域内を走査することによりウエーハ表面上の金属不純物を分解回収するシリコンウエーハ表面金属不純物の前処理方法において、ウエーハ表面上を走査させて回収した薬液中に、薬液分解触媒を添加する前処理方法であり、その薬液をフレームレス原子吸光分析装置または誘導結合プラズマ質量分析装置に投入して分析する分析方法である。
請求項（抜粋）：
少なくともフッ酸蒸気によりシリコンウエーハ表面の自然酸化膜を分解した後、ウエーハ表面に薬液を滴下し、不純物分析領域内を走査することによりウエーハ表面上の金属不純物を分解回収するシリコンウエーハ表面金属不純物の前処理方法において、ウエーハ表面上を走査させて回収した薬液中に、薬液分解触媒を添加することを特徴とするシリコンウエーハ表面金属不純物の前処理方法。
IPC (6件)：
G01N 1/28
, G01N 21/31
, G01N 21/73
, G01N 30/00
, G01N 33/20
, H01L 21/66
G01N 1/28 X
, G01N 21/31 A
, G01N 21/73
, G01N 30/00 E
, G01N 33/20 G
, H01L 21/66 N
, H01L 21/66 Q
