特許
J-GLOBAL ID：200903003204614240
液中微粒子付着制御法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-200252
公開番号（公開出願番号）：特開平5-138142
出願日： 1991年08月09日
公開日（公表日）： 1993年06月01日
要約：
【要約】【目的】本発明の目的は、半導体の製造プロセスにおいて、各種金属、合金、セラミックスを含む無機物または有機物を含む化合物の微粒子の付着を防止する技術を提案することにある。【構成】本発明は、溶液中にある微粒子および基板のゼータ電位(表面電位)を制御できる物質を、該溶液中に添加することにより、溶液中にある前記微粒子の付着を防止あるいは低減することにより達成される。
請求項（抜粋）：
溶液中にある微粒子のゼータ電位(表面電位)を制御できる物質を、該溶液中に10~7〜25vol%の範囲の添加濃度で添加することにより、溶液中にある被吸着体である前記微粒子の付着を防止あるいは低減することを特徴とする液中微粒子付着制御法。
IPC (2件)：
B08B 17/02
, H01L 21/304 341
