特許

J-GLOBAL ID：200903003214403980

芳香族炭酸ジエステルの製造方法

発明者： 伊藤 光則
出願人/特許権者： 出光興産株式会社
代理人 (1件)： 大谷 保
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-262663
公開番号（公開出願番号）：特開平9-104658
出願日： 1995年10月11日
公開日（公表日）： 1997年04月22日
要約：

【要約】【課題】 尿素類とフェノール類、又はアリールカーバメート類とフェノール類とを反応させることにより、副反応を抑制して選択的かつ効率的に芳香族炭酸ジエステルを製造する方法を提供すること。【解決手段】 一般式(I)【化1】(R1 〜R4 は明細書に記載したとおりである。)で表される尿素類とフェノール類とを、アート錯体存在下で反応させるか、又は一般式(IV)【化2】(R5 ,R6 ,X2 及びnは明細書に記載したとおりである。)で表されるアリールカーバメート類とフェノール類とを、アート錯体存在下で反応させることにより、芳香族炭酸ジエステルを製造する方法である。

請求項（抜粋）：

一般式(I)【化1】(式中、R1 〜R4 は、それぞれ水素原子又は炭素数1〜18のヘテロ原子を含んでいてもよい炭化水素基を示し、それらはたがいに同一であっても異なっていてもよい。)で表される尿素類と、一般式(II)【化2】(式中、X1 は水素原子、ハロゲン原子又は炭素数1〜18のヘテロ原子を含んでいてもよい炭化水素基、mは1〜5の整数を示し、X1 が複数ある場合は複数のX1 は同一でも異なっていてもよい。)で表されるフェノール類とを、アート錯体存在下で反応させることを特徴とする、一般式(III)【化3】(式中、X1 及びmは前記と同じである。)で表される芳香族炭酸ジエステル製造方法。

IPC (4件)：

C07C 69/96 ,  B01J 31/14 ,  C07C 68/00 ,  C07B 61/00 300

FI (5件)：

C07C 69/96 Z ,  B01J 31/14 Z ,  C07C 68/00 D ,  C07C 68/00 C ,  C07B 61/00 300