特許
J-GLOBAL ID：200903003214444547
磁気記録媒体の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
重野 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-209911
公開番号（公開出願番号）：特開平10-055538
出願日： 1996年08月08日
公開日（公表日）： 1998年02月24日
要約：
【要約】【課題】 下地層や磁性層の成膜工程でのパーティクル付着を防止して、欠陥のない高品質の磁気記録媒体を歩留り良く製造する。【解決手段】 下地層及び/又は磁性層形成用スパッタターゲットとして、表面粗さ(Ra)が10μm以上のターゲットを用いて成膜する。【効果】 表面粗度の高いターゲットであれば、成膜中にターゲットの非エロージョン部に付着、堆積した成膜成分のターゲットに対する密着力が大きいことから、この成膜成分がターゲットから剥離し難い。このため、ターゲットに付着、堆積した成膜成分がターゲットから剥離して基板上にパーティクルとして付着することによる製品欠陥の発生は防止される。
請求項（抜粋）：
基板上にスパッタ法により下地層及び磁性層を順次形成して磁気記録媒体を製造する方法において、下地層を形成するためのターゲット及び/又は磁性層を形成するためのターゲットとして、表面粗さ(Ra)10μm以上のターゲットを用いることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
IPC (3件)：
G11B 5/85
, C23C 14/34
, G11B 5/84
G11B 5/85 C
, C23C 14/34 B
, G11B 5/84 Z
