特許

J-GLOBAL ID：200903003232840123

薄膜形成装置

発明者： 梶田 直幸
出願人/特許権者： 三菱電機株式会社
代理人 (1件)： 曾我 道照 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-059492
公開番号（公開出願番号）：特開平9-249961
出願日： 1996年03月15日
公開日（公表日）： 1997年09月22日
要約：

【要約】【課題】 本発明は、大形の基材に対しても均一な膜厚で成膜し、かつ段差部分等にも十分に成膜することを目的とするものである。【解決手段】 基材ホルダ17を傾斜角度調整可能に真空槽11内に設け、真空槽11外のモータ20から基材ホルダ17までの回転伝達機構40には、伸縮自在の摺動継手24及び屈曲自在のユニバーサルジョイント26〜28を組み合わせて使用した。

請求項（抜粋）：

真空槽と、この真空槽内に回転可能かつ傾斜角度調節可能に設けられ、基材を保持する基材ホルダと、上記真空槽外に設けられ、上記基材ホルダを回転させるための駆動源と、回転を伝達する伸縮自在の摺動継手、及び回転を伝達する屈曲自在のユニバーサルジョイントを有し、上記駆動源の駆動力を上記基材ホルダに伝達する回転伝達機構と、上記真空槽内に設けられ、上記基材ホルダ上の基材に対して蒸着材料を供給する蒸着材料供給手段とを備えていることを特徴とする薄膜形成装置。