光学素子及び光学素子の製造方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：薄田利幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-272844
公開番号（公開出願番号）：特開平6-124876
出願日： 1992年10月12日
公開日（公表日）： 1994年05月06日
要約：

【要約】【目的】基板再生を可能にする反射型マスク等の光学素子を製造する。【構成】光学素子において基板11と多層膜22の間に薄膜層119を設ける。【効果】多層膜22に欠陥が発見された場合は、多層膜22と薄膜層119を除去し高価な基板11を再利用できる。多層膜の除去の際,薄膜層が基板表面を保護するので、基板の超平滑性を損なわずに再生できるので,光学素子の製造において,製造コストが低減できる。

請求項（抜粋）：

基板上に真空紫外線又はX線に対して相対的に反射率の低い領域と,真空紫外線又はX線に対して相対的に反射率の高い領域が,所定のパタ-ンに応じて配置された光学素子において,上記反射率の高い領域と上記基板の間に少なくとも1層の薄膜層を形成したことを特徴とする光学素子。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 1/16 , G03F 9/00

FI (2件)：

H01L 21/30 331 M , H01L 21/30 331 A

引用特許：

審査官引用 (3件)

特開平1-278722
特開平2-177532
特開平2-003217

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