特許
J-GLOBAL ID：200903003242807507

露光装置

発明者：
高林 幸夫

高林 幸夫 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (2件)： 伊東 哲也 ,  齋藤 和則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-070930
公開番号（公開出願番号）：特開2008-235457
出願日： 2007年03月19日
公開日（公表日）： 2008年10月02日
要約：
【課題】 物像間の光速度遅延に起因した、走査速度に依存した位置ずれが重ね合わせ精度を劣化させる。【解決手段】 レチクルとウエハとの物像間隔と屈折率から露光光が到達するまでの遅延時間を算出する。レチクルとウエハの各ステージが同期して走査する走査速度と、遅延時間との積をとることで、走査速度に比例して発生する位置ずれ量を補正する補正値を算出し、各ステージの駆動目標値に反映させることで、重ね合わせの精度を向上させる。【選択図】 図1
請求項１：
原版のパターンを投影光学系を介して基板に投影し、該投影光学系の光軸に対し前記原版と基板を同期して移動することにより前記原版のパターンを前記基板に露光する走査型の露光装置であって、 前記原版と基板とを同期して移動する際、その移動の速度に応じた量、前記原版と基板との相対位置を補正する手段を有することを特徴とする露光装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20
FI (3件)：
H01L21/30 516B ,  H01L21/30 518 ,  G03F7/20 521
Fターム (7件)：
5F046BA05 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02 ,  5F046CC15 ,  5F046DA30 ,  5F046DB04 ,  5F046FB20
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (6件)
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