特許
J-GLOBAL ID：200903003242810346
溶射皮膜の形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
奥山 尚男 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-204686
公開番号（公開出願番号）：特開平8-067958
出願日： 1994年08月30日
公開日（公表日）： 1996年03月12日
要約：
【要約】【目的】 金属素材や溶射材料の種類や材質等に依存することなく、優れた密着性をもって溶射皮膜を金属素材の表面に形成することができるような溶射皮膜の形成方法を提供する。【構成】 金属素材1の表面1aに分散めっき層4を下地層として形成し、この分散めっき層4の表面4aに溶射を行って分散めっき層4上に溶射皮膜3を形成する。また、この場合、分散めっき層4の厚さを50〜300μmに設定し、かつ、分散めっき層4の形成に用いる分散材粒子の粒径を0.1〜10μmに選定する。
請求項（抜粋）：
金属素材の表面に分散めっき層を下地層として形成し、この分散めっき層の表面に溶射を行って前記分散めっき層上に溶射皮膜を形成するようにしたことを特徴とする溶射皮膜の形成方法。
IPC (6件)：
C23C 4/06
, B05D 3/10
, B05D 7/14
, C23C 4/02
, C23C 28/02
, C25D 15/02
