レジスト溶液およびその調製方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：浅村皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-034900
公開番号（公開出願番号）：特開平11-231539
出願日： 1998年02月17日
公開日（公表日）： 1999年08月27日
要約：

【要約】【課題】 ArFエキシマレーザーに対して高い透明性を有し、かつ耐ドライエッチング耐性に優れ、さらに安定して優れたパターン形状を与えるレジスト溶液を提供する。【解決手段】酸と反応して脱離する脂環式炭化水素基を含有する構造単位を含むポリマーおよび酸発生剤を含有するレジスト組成物と溶媒とを含んでなるレジスト溶液であって、前記レジスト溶液が0.1μm以上の固形物を含有しないことを特徴とするレジスト溶液である。

請求項（抜粋）：

酸と反応して脱離する脂環式炭化水素基を含有する構造単位を含むポリマーおよび酸発生剤を含有するレジスト組成物と溶媒とを含んでなるレジスト溶液であって、前記レジスト溶液が直径0.1μm以上の固形物を含有しないことを特徴とするレジスト溶液。

IPC (2件)：

G03F 7/039 601 , H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 7/039 601 , H01L 21/30 502 R

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