特許
J-GLOBAL ID:200903003257935684

点パターン正規化方法及び装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 秋田 収喜
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-055763
公開番号(公開出願番号):特開平10-255042
出願日: 1997年03月11日
公開日(公表日): 1998年09月25日
要約:
【要約】【課題】 点パターン間の任意のアフィン変換で表現される広範囲の変位・変形を扱い、該変位・変形を吸収するために入力パターンにアフィン変換操作を施して整形入力パターンを生成する安定、かつ、高能率な点パターン正規化技術を提供する。【解決手段】 光学的読取手段で取得された2次元平面上の点集合で表わされる入力パターンと標準パターンの間で、入力パターンをアフィン変換して整形入力パターンを生成し、標準パターンが発生する確率場における尤度が最大となるような整形入力パターンを生成し、この整形入力パターンを点パターン正規化結果として出力する点パターン正規化方法である。
請求項(抜粋):
光学的読取手段で取得された2次元平面上の点集合で表わされる入力パターンと標準パターンの間で、入力パターンをアフィン変換して整形入力パターンを生成し、標準パターンが発生する確率場における尤度が最大となるような整形入力パターンを生成し、この整形入力パターンを点パターン正規化結果として出力することを特徴とする点パターン正規化方法。

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