フォトマスク及びペリクル並びにフォトマスク上の異物除去方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：曾我道照 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-337864
公開番号（公開出願番号）：特開平7-199449
出願日： 1993年12月28日
公開日（公表日）： 1995年08月04日
要約：

【要約】【目的】フォトマスク表面に異物が付着することを防ぎ、ペリクルの張り替え作業を無くしたフォトマスク及びペリクル並びにフォトマスク上の異物除去方法を得ることを目的とする。【構成】フォトマスクの基板となる石英基板1上には、所定のパターンに従って金属遮光膜2が設けられている。これら石英基板1及び金属遮光膜2上には、異物除去用の多層薄膜3が設けられている。多層薄膜3は、複数層例えば3層の光透過性薄膜からなり、図1では第1の薄膜3a、第2の薄膜3b、第3の薄膜3cから構成されている。【効果】フォトマスク表面に直接異物が付着することを防止でき、異物が付着した最上層の薄膜のみを除去することで容易に異物を除去することができる。

請求項（抜粋）：

基板と、この基板上に設けられた金属遮光膜と、上記基板及び上記金属遮光膜上に設けられた複数層の光透過性膜からなる多層薄膜とを有することを特徴とするフォトマスク。

IPC (3件)：

G03F 1/08 , G03F 1/14 , H01L 21/027

FI (2件)：

H01L 21/30 502 P , H01L 21/30 502 W

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