特許

J-GLOBAL ID：200903003273889846

離型層形成方法及び離型層形成装置

発明者： 由尾 啓 ,  鈴木 正敏 ,  白鷺 俊彦
出願人/特許権者： 株式会社ソニー・ディスクテクノロジー
代理人 (1件)： 小松 祐治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-351391
公開番号（公開出願番号）：特開平9-180272
出願日： 1995年12月26日
公開日（公表日）： 1997年07月11日
要約：

【要約】【課題】 光ディスク製造工程において、離型層の形成に廃水の処理が容易なオゾン水を使用する。【解決手段】 メタルマスター2からマザー3を剥離するため及びマザー3からスタンパー4を剥離するための離型層2a、3aを形成するパッシベーション14、17にオゾンを純水中に溶解させたオゾン水25を用いるようにした。

請求項（抜粋）：

光ディスクの製造工程において、メタルマスターからマザーを剥離するため及びマザーからスタンパーを剥離するための離型層を形成するパッシベーションにオゾンを純水中に溶解させたオゾン水を用いたことを特徴とする離型層形成方法。

IPC (5件)：

G11B 7/26 511 ,  B05C 11/08 ,  B05D 1/40 ,  B05D 5/00 ,  B05D 7/24 302

FI (5件)：

G11B 7/26 511 ,  B05C 11/08 ,  B05D 1/40 A ,  B05D 5/00 A ,  B05D 7/24 302 A