光表面レリーフ形成用感光性材料および感光性薄膜、並びにその感光性材料を用いたレリーフ形成方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：磯野道造
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-282217
公開番号（公開出願番号）：特開2003-082033
出願日： 2001年09月17日
公開日（公表日）： 2003年03月19日
要約：

【要約】【課題】レリーフの形成効率をより向上させるための高い感度を備え、かつ形成されたレリーフが熱的にも経時的にも安定であり、しかも各種の有機溶剤に対して化学的安定性を有する光表面レリーフ形成用感光性材料および感光性薄膜、並びにその感光性材料を用いるパターン形成方法を提供する。【解決手段】一般式(1)で表されるアゾベンゼン誘導体から構成する。一般式(1)中、R<SB>1</SB>はアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基およびハロゲン化アルコキシ基の中から選ばれた1種であり、R<SB>2</SB>、R<SB>3</SB>はHまたはアルキル基であり、nは1以上の数であり、xは0<x<1を満たす数である。また、スピンコート法やLB法によって感光性薄膜を形成し、この感光性薄膜に波長が365nmの光を含む光線照射して化学構造をシス型として、所定の光を照射する。

請求項（抜粋）：

一般式(1)【化1】(式(1)中、R<SB>1</SB>はアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基およびハロゲン化アルコキシ基の中から選ばれた1種であり、R<SB>2</SB>、R<SB>3</SB>は互いに独立してHまたはアルキル基であり、nは1以上の数であり、xは0<x<1を満たす数である。)で表されるアゾベンゼン誘導体。

IPC (7件)：

C08F220/36 , C08F220/12 , C08F220/28 , C08F290/06 , G03F 7/004 511 , G03F 7/004 521 , G03H 1/02

FI (7件)：

C08F220/36 , C08F220/12 , C08F220/28 , C08F290/06 , G03F 7/004 511 , G03F 7/004 521 , G03H 1/02

Fターム (28件)：

2H025AA01 , 2H025AB20 , 2H025AC01 , 2H025BH05 , 2H025FA03 , 2K008AA04 , 2K008BB01 , 2K008BB04 , 2K008DD12 , 2K008DD14 , 2K008FF13 , 2K008HH06 , 2K008HH18 , 2K008HH25 , 4J027AC03 , 4J027AJ02 , 4J027BA13 , 4J027CB09 , 4J027CD10 , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100BA02Q , 4J100BA03P , 4J100BA08P , 4J100BA45Q , 4J100BC43Q , 4J100DA61 , 4J100JA38

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