特許
J-GLOBAL ID:200903003290222308

PZT前駆体ゾル及びこのPZT前駆体ゾルの調製方法並びにこのPZT前駆体ゾルを用いたPZT薄膜の形成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 古澤 俊明 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-096913
公開番号(公開出願番号):特開平11-278846
出願日: 1998年03月26日
公開日(公表日): 1999年10月12日
要約:
【要約】【目的】 工業的な応用のため、長時間ゲル化が起きない安定な前駆体ゾルを得ることと、強誘電体のPZT薄膜を低温で形成する方法を確立すること。【構成】 酢酸鉛を酢酸に溶解した前駆体ゾル溶液中に、チタン又はジルコニウムのアルコキシドを加えてPZT用前駆体ゾルを調製してなるもので、この調製は、酢酸鉛の脱水工程と、チタンアルコキシドをキレート化する工程と、チタン原料と鉛原料の混合工程と、ジルコニウムアルコキシドをキレート化する工程と、チタン原料、鉛原料及びジルコニウム原料の混合工程と、前駆体溶液の加水分解工程と、ゾルの分散と安定化工程とからなる。このため、安定な溶液を調製でき、また、チタン酸鉛をバッファー層として使用し、鉛過剰添加の前駆体ゾルを使用することにより、従来よりも低温でペロブスカイト化が可能である。
請求項(抜粋):
PZT前駆体ゾル溶液中に、このPZT前駆体ゾル溶液を安定化するためにカルボキシル基を有する物質を加えてなることを特徴とするPZT前駆体ゾル。
IPC (4件):
C01G 25/00 ,  B01J 13/00 ,  C04B 35/49 ,  H01B 3/12 301
FI (4件):
C01G 25/00 ,  B01J 13/00 C ,  H01B 3/12 301 ,  C04B 35/49 A

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