特許
J-GLOBAL ID：200903003291274093
磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスク
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
阿仁屋 節雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-269907
公開番号（公開出願番号）：特開平11-154325
出願日： 1991年09月30日
公開日（公表日）： 1999年06月08日
要約：
【要約】【目的】 高密度記録が可能な程度に十分な平清度を有し、かつ、記録エリアを周縁にまで拡大することを可能とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。【構成】 円板状ガラス基板の主表面に、研削、硬質ポリシャを使用する第1研磨及び軟質ポリシャを使用する第2研磨を順次施して前記主表面を鏡面にする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、少なくとも第2研磨を、酸化セリウム、酸化ジルコン、コロイダルシリカから選ばれる研磨剤で研磨することを特徴とする。
請求項（抜粋）：
円板状ガラス基板の主表面に、研削、硬質ポリシャを使用する第1研磨及び軟質ポリシャを使用する第2研磨を順次施して前記主表面を鏡面にする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、前記第2研磨を、酸化セリウム、酸化ジルコン、コロイダルシリカから選ばれる研磨剤で研磨することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
IPC (3件)：
G11B 5/84
, G11B 5/704
, G11B 5/82
G11B 5/84 A
, G11B 5/704
, G11B 5/82
