特許

J-GLOBAL ID：200903003292633968

気相成長装置

発明者： 河合 弘治 ,  和田 伸一
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 松隈 秀盛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-129804
公開番号（公開出願番号）：特開平6-338466
出願日： 1993年05月31日
公開日（公表日）： 1994年12月06日
要約：

【要約】【目的】 安定して、優れた膜質の気相成長を行うことができるようにする。【構成】 気相成長反応容器2内の、被気相成長基体1の配置部との対向部の壁面に原料を含まないガスを流す構成とする。

請求項（抜粋）：

気相成長反応容器内の、被気相成長基体の配置部との対向部の壁面に原料を含まないガスを流すことを特徴とする気相成長装置。

IPC (4件)：

H01L 21/205 ,  C30B 25/14 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/31

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭63-028868
  
• 特開昭61-166123
  
• 特開平4-335521