特許
J-GLOBAL ID：200903003300697636
プラズマ処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 正次
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-020547
公開番号（公開出願番号）：特開平5-190500
出願日： 1992年01月09日
公開日（公表日）： 1993年07月30日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】 均一、高密度のプラズマを対向電極間隙に閉じ込めることができるプラズマ処理装置を提供することを目的としている。【構成】 互いに平行に対向させた、導電性材料でなる、2枚の電極1、2と絶縁性材料でなる側壁3とで真空処理室を構成する。電極1が被処理基板7を保持する電極とする。電極2には反応性ガスを導入するための手段9、10を備える。側壁3に排気口11を設け、排気口11の外側に接地電位にある排気導管13を接続する。また、排気口11内に、2枚の電極1、2および排気導管13から絶縁された、導電性材料でなる網12を設置する。前記側壁3は導電性材料で構成し、絶縁材製のスペーサ24、25で電極1、2から絶縁した構成とする場合もある。
請求項（抜粋）：
互いに平行に対向させた、導電性材料でなる、2枚の電極と、絶縁性材料でなる側壁とで、真空処理室が構成してあり、前記電極の一方が被処理基板を保持する電極とされ、他方の電極には、反応性ガスを導入するための手段を備えていると共に、前記側壁に排気口が設けられ、排気口の外側に、接地電位にある排気導管が接続され、かつ、前記排気口内に、前記2枚の電極及び排気導管から絶縁された、導電性材料でなる網が設置してあることを特徴とするプラズマ処理装置
IPC (2件)：
引用特許：
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