特許

J-GLOBAL ID：200903003302870645

無機多孔質膜の製造方法

発明者： 新 佳之 ,  大西 孝明 ,  長田 和男
出願人/特許権者： 株式会社クボタ
代理人 (1件)： 北村 修一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-172585
公開番号（公開出願番号）：特開2000-007306
出願日： 1998年06月19日
公開日（公表日）： 2000年01月11日
要約：

【要約】【課題】 アルコキシシラン類溶液を主剤とする場合に、他の金属材料を含有する場合であっても、細孔の孔径を均一に形成し、高い特性を有する無機多孔質膜を容易に製造する方法を提供すること。【解決手段】 水及び触媒量の酸を含むアルコキシシラン類溶液を主材としてあるとともに、その溶媒に可溶性の金属塩を前記溶液に添加してあり、かつ、水とアルコキシシラン類とのモル比率(H2O/Si)が4以下であるpH1〜2.5の無機材料組成物を、無機多孔質支持体上に塗布、乾燥して非結晶性塗膜を形成する塗膜形成工程、及び、前記非結晶性塗膜を前記加水分解による結晶化をさせない低温かつ常圧の条件下で加熱処理する加熱工程を行う。

請求項（抜粋）：

水及び触媒量の酸を含むアルコキシシラン類溶液を主材としてあるとともに、その溶媒に可溶性の金属塩を前記溶液に添加してあり、かつ、水とアルコキシシラン類とのモル比率(H2O-Si)が4以下であるpH1〜2.5の無機材料組成物を、無機多孔質支持体上に塗布、乾燥して非結晶性塗膜を形成する塗膜形成工程、及び、前記非結晶性塗膜を前記アルコキシシラン類の加水分解による結晶化をさせない低温かつ常圧の条件下で加熱処理する加熱工程を行う無機多孔質膜の製造方法。

Fターム (7件)：

4G042DA01 ,  4G042DB11 ,  4G042DB23 ,  4G042DD02 ,  4G042DD11 ,  4G042DE09 ,  4G042DE14