特許

J-GLOBAL ID：200903003310252306

基板処理装置

発明者： 浅井 優幸
出願人/特許権者： 株式会社日立国際電気
代理人 (1件)： 三好 祥二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-259858
公開番号（公開出願番号）：特開2006-080148
出願日： 2004年09月07日
公開日（公表日）： 2006年03月23日
要約：

【課題】 基板処理装置に於いて、基板の基板支持台への搬送位置の再現性を向上させ、基板と基板支持台との接触の不均一の要因の1つである累積膜の影響を無くし、膜厚の均一性、再現性の向上を図る。 【解決手段】 基板9を収納し処理する処理容器1と、該処理容器内で前記基板を支持する基板支持台2と、該基板支持台上方に設けられ、該基板支持台に対する前記基板の搬送位置を検知する基板位置検知センサ29とを具備する。 【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

基板を収納し処理する処理容器と、該処理容器内で前記基板を支持する基板支持台と、該基板支持台上方に設けられ、該基板支持台に対する前記基板の搬送位置を検知する基板位置検知センサとを具備することを特徴とする基板処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/68 ,  C23C 16/44 ,  H01L 21/205

FI (3件)：

H01L21/68 F ,  C23C16/44 F ,  H01L21/205

Fターム (27件)：

4K030CA04 ,  4K030GA12 ,  4K030KA41 ,  4K030LA15 ,  5F031CA02 ,  5F031FA01 ,  5F031FA07 ,  5F031FA12 ,  5F031HA24 ,  5F031HA28 ,  5F031HA29 ,  5F031HA33 ,  5F031HA37 ,  5F031JA06 ,  5F031JA17 ,  5F031JA27 ,  5F031JA36 ,  5F031MA28 ,  5F031PA14 ,  5F031PA26 ,  5F045AA04 ,  5F045AA06 ,  5F045BB01 ,  5F045EM02 ,  5F045EM10 ,  5F045EN06 ,  5F045GB01