特許
J-GLOBAL ID：200903003327707803
ガスセンサ及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
瀧野 秀雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-147763
公開番号（公開出願番号）：特開2000-338073
出願日： 1999年05月27日
公開日（公表日）： 2000年12月08日
要約：
【要約】【課題】 製造において拡散工程などの煩雑で高コストの原因となる工程を必要とせず、各層間の剥離のおそれがなく、さらに消費電力が少ない、感度の良いガスセンサを提供する。【解決手段】 薄膜状のセンサ素子主部を基板の空洞上に位置させたガスセンサに関し、該薄膜状のセンサ素子主部がその両面を貫通するすかし部分を有するヒータ部と、該ヒータ部のすかし部分に形成されたガス感応部とからなるガスセンサ。
請求項（抜粋）：
薄膜状のセンサ素子主部を基板の空洞上に位置させたガスセンサに関し、該薄膜状のセンサ素子主部がその両面を貫通するすかし部分を有するヒータ部と、該ヒータ部のすかし部分に形成されたガス感応部とからなることを特徴とするガスセンサ。
Fターム (11件)：
2G046AA02
, 2G046BA01
, 2G046BA03
, 2G046BB02
, 2G046BE02
, 2G046DB04
, 2G046EA02
, 2G046EA07
, 2G046EA11
, 2G046FB02
, 2G046FC08
