化粧品基材

発明者： , ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-355302
公開番号（公開出願番号）：特開平7-173028
出願日： 1993年12月17日
公開日（公表日）： 1995年07月11日
要約：

【要約】【構成】 MS値0.1〜1.8、窒素含有率0.2〜3重量%のカチオン化ヒドロキシアルキルガラクトマンナンからなる化粧品基材。【効果】本発明のカチオン化ヒドロキシアルキルガラクトマンナンを用いた化粧品は、良好な使用感、仕上り感を与える。

請求項（抜粋）：

MS値0.1〜1.8のガラクトマンナンのヒドロキシアルキルエーテルにおいて、その中のヒドロキシル基の一部が下記化1の一般式(I)で示される残基で置換された構造を有し、かつ窒素含有率が0.2〜3重量%のカチオン化ヒドロキシアルキルガラクトマンナンからなる化粧品基材。【化1】

IPC (4件)：

A61K 7/00 , A61K 7/02 , A61K 7/06 , A61K 7/48

引用特許：

審査官引用 (14件)

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