特許

J-GLOBAL ID：200903003347582551

化粧品基材

発明者： 中島 徹 ,  渡辺 美広 ,  坂 直子
出願人/特許権者： 日澱化學株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-355302
公開番号（公開出願番号）：特開平7-173028
出願日： 1993年12月17日
公開日（公表日）： 1995年07月11日
要約：

【要約】【構成】 MS値0.1〜1.8、窒素含有率0.2〜3重量%のカチオン化ヒドロキシアルキルガラクトマンナンからなる化粧品基材。【効果】 本発明のカチオン化ヒドロキシアルキルガラクトマンナンを用いた化粧品は、良好な使用感、仕上り感を与える。

請求項（抜粋）：

MS値0.1〜1.8のガラクトマンナンのヒドロキシアルキルエーテルにおいて、その中のヒドロキシル基の一部が下記化1の一般式(I)で示される残基で置換された構造を有し、かつ窒素含有率が0.2〜3重量%のカチオン化ヒドロキシアルキルガラクトマンナンからなる化粧品基材。【化1】

IPC (4件)：

A61K 7/00 ,  A61K 7/02 ,  A61K 7/06 ,  A61K 7/48

引用特許：

審査官引用 (9件)

• 化粧品組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-214147   出願人：ユニリーバー・ナームローゼ・ベンノートシヤープ
• ヘアケア組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-209078   出願人：ユニリーバー・ナームローゼ・ベンノートシヤープ
• 特開平2-264710
  
• 特開昭58-196300
  
• 特開昭55-164300
  
• 特開平3-068509
  
• 特開平4-273811
  
• 整髪料組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-272884   出願人：花王株式会社
• 化粧品基材
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-251205   出願人：日澱化學株式会社