紫外線誘発プロスタグランジンE2産生抑制剤

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：平木祐輔 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-396607
公開番号（公開出願番号）：特開2003-192588
出願日： 2001年12月27日
公開日（公表日）： 2003年07月09日
要約：

【要約】【課題】紫外線誘発プロスタグランジンE2(PGE2)産生抑制剤の提供。【解決手段】下記の一般式(I)で表されるポリアルコキシフラボノイドを含有する紫外線誘発プロスタグランジンE2(PGE2)産生抑制剤。【化1】(式中、R1は水素原子または炭素数1〜6の低級アルキル基を表し、R2、R3およびR4は各々独立に水素原子または炭素数1〜6のアルコキシ基を表し、R5は炭素数1〜6の低級アルキル基を表す。)

請求項（抜粋）：

下記の一般式(I)で表されるポリアルコキシフラボノイドを含有する紫外線誘発プロスタグランジンE2産生抑制剤。【化1】(式中、R1は水素原子または炭素数1〜6の低級アルキル基を表し、R2、R3およびR4は各々独立に水素原子または炭素数1〜6のアルコキシ基を表し、R5は炭素数1〜6の低級アルキル基を表す。)

IPC (8件)：

A61K 31/352 , A61P 17/00 , A61P 17/02 , A61P 17/16 , A61P 29/00 , A61P 35/00 , A61P 43/00 112 , C07D311/30

FI (8件)：

A61K 31/352 , A61P 17/00 , A61P 17/02 , A61P 17/16 , A61P 29/00 , A61P 35/00 , A61P 43/00 112 , C07D311/30

Fターム (12件)：

4C062EE56 , 4C086AA01 , 4C086AA02 , 4C086BA08 , 4C086MA01 , 4C086MA04 , 4C086NA14 , 4C086ZA89 , 4C086ZB11 , 4C086ZB21 , 4C086ZB26 , 4C086ZC12

引用特許：

審査官引用 (3件)

フラボン類の新規利用法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-049370 出願人：ビーエーエスエフアクチェンゲゼルシャフト
化粧料組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-118479 出願人：日本油脂株式会社
美白化粧料
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-039744 出願人：日本油脂株式会社

引用文献：

審査官引用 (2件)

前のページに戻る