特許

J-GLOBAL ID：200903003361905550

ガラス膜形成方法

発明者： 中沢 正隆 ,  木村 康郎 ,  樫村 誠一 ,  井本 克之
出願人/特許権者： 日立電線株式会社 ,  日本電信電話株式会社
代理人 (1件)： 絹谷 信雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-297071
公開番号（公開出願番号）：特開平6-144867
出願日： 1992年11月06日
公開日（公表日）： 1994年05月24日
要約：

【要約】【目的】 屈折率の面内均一性の良い低損失なコア用ガラス膜を形成し、低損失な光導波路を製造する。【構成】 屈折率制御用材料を含むSiO2 タブレット1,2を電子ビーム蒸着法により蒸発させて基板6上にガラス膜を形成する。タブレット1,2として、粒径が1μm以下で、かつ粒径が揃った原材料粉末を用いて形成されたタブレットを使用する。タブレット1,2は、屈折率制御用材料およびSi02 粉末を混合しホットプレスにより焼き固めて形成し、その焼結密度は90%以上とする。屈折率制御用材料には、Ti、P、Ge、Al、B、Ta、Zn、Fなどの酸化物、乃至Er、Nd、Yb、Ce、Ho、Tm、Pr、Smなどの希土類元素酸化物を少なくとも1種含んだものを使用する。

請求項（抜粋）：

屈折率制御用材料を含むSi02 タブレットを電子ビーム蒸着法により蒸発させて基板の低屈折率層上にガラス膜を形成する方法において、粒径が1μm以下で、かつ粒径が揃った原材料粉末を用いて形成されたタブレットを使用するようにしたことを特徴とするガラス膜形成方法。

IPC (2件)：

C03C 3/04 ,  G02B 6/12

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平4-022906
  
• 特開平3-035203
  
• 特開平3-035202
  
• 特開昭63-158790