特許

J-GLOBAL ID：200903003363115343

研摩材及びその製造方法、ならびにそれを使用した研摩方法

発明者： 久保 健二 ,  木下 暢
出願人/特許権者： 住友大阪セメント株式会社
代理人 (1件)： 土橋 皓
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-012608
公開番号（公開出願番号）：特開2001-200243
出願日： 2000年01月21日
公開日（公表日）： 2001年07月24日
要約：

【要約】【課題】 微細な表面粗さと、高い研摩加工速度と、中性域でのpHにおいても再現性の良い研摩加工速度が達成され、媒体中への分散性が良好、かつ安定である微粒子状研摩材、該微粒子状研摩材を含む安定なスラリー研摩材、該スラリー研摩材の製造方法、及び該スラリー研摩材を用いた研摩方法を提供することを課題とする。【解決手段】 酸化珪素微粒子の表面に酸化セリウム微粒子が凝着した複合微粒子よりなり、前記酸化セリウムの前記酸化珪素に対する割合は、前記酸化珪素 100重量部に対して 5〜 40 重量部となるように微粒子状研摩材を構成し、この微粒子状研摩材を用いたスラリー研摩材およびその製造方法並びに前記スラリー研摩材を用いた一段階の研摩方法を構成する。

請求項（抜粋）：

酸化珪素微粒子の表面に酸化セリウム微粒子が凝着した複合微粒子よりなり、前記酸化セリウムの前記酸化珪素に対する割合は、前記酸化珪素 100重量部に対して 5〜 40 重量部であることを特徴とする微粒子研摩材。

IPC (3件)：

C09K 3/14 550 ,  B24B 37/00 ,  H01L 21/304 622

FI (3件)：

C09K 3/14 550 E ,  B24B 37/00 H ,  H01L 21/304 622 D

Fターム (7件)：

3C058AA09 ,  3C058CA01 ,  3C058CB03 ,  3C058CB05 ,  3C058CB10 ,  3C058DA02 ,  3C058DA12