特許
J-GLOBAL ID：200903003364291048
ガスハイドレートの濃度測定方法およびその装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
小川 信一
, 野口 賢照
, 斎下 和彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-195858
公開番号（公開出願番号）：特開2009-029946
出願日： 2007年07月27日
公開日（公表日）： 2009年02月12日
要約：
【課題】原料ガスと原料水とを気液接触させてガスハイドレートを製造する製造装置において、生成されるガスハイドレートの濃度をインラインでかつその場で計測することを特徴とするガスハイドレートの製造装置におけるハイドレート濃度測定装置を提供する。【解決手段】所定の圧力と温度を保持している生成器1に原料ガスG1と原料水W1とを導入して反応させ、ガスハイドレートと未反応水とよりなるスラリーを生成する生成手段を有するガスハイドレートの製造装置において、前記生成手段にて生成したスラリーを移送するスラリー管L2にガスハイドレートの濃度を計測する濃度計K1を設けた。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
所定の圧力と温度を保持している生成器に原料ガスと原料水とを導入して反応させ、ガスハイドレートと未反応水とよりなるスラリーを生成する生成手段を有するガスハイドレートの製造装置において、
前記生成手段にて生成したスラリーを移送するスラリー管にガスハイドレートの濃度を計測する濃度計を設けたことを特徴とするガスハイドレートの製造装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (12件)：
2G059AA01
, 2G059BB01
, 2G059BB04
, 2G059DD03
, 2G059DD12
, 2G059DD15
, 2G059DD16
, 2G059EE01
, 2G059HH01
, 2G059MM01
, 2G059MM05
, 2G059PP04
出願人引用 (3件)
審査官引用 (6件)
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