特許

J-GLOBAL ID：200903003370397915

洗浄用添加剤

発明者： 池本 一人 ,  丸山 岳人 ,  桜井 直人
出願人/特許権者： 三菱瓦斯化学株式会社
代理人 (1件)： 永井 隆
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-203251
公開番号（公開出願番号）：特開2004-047740
出願日： 2002年07月11日
公開日（公表日）： 2004年02月12日
要約：

【課題】無機質基体上に塗布されたレジスト膜、または無機質基体上に塗布されたレジスト膜をエッチング後に残存するレジスト膜、あるいはレジスト膜をエッチング後にアッシングを行い残存するレジスト残渣物等を低温、短時間で容易に洗浄できるようにする添加剤を提供すること。【解決手段】アミノヒドロキシメチル構造を1分子中に1個以上有するアミノヒドロキシメチル化合物からなる洗浄用添加剤。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

下記式(1)で表される構造を1分子中に1個以上有するアミノヒドロキシメチル化合物からなる洗浄用添加剤。

IPC (4件)：

H01L21/304 ,  C11D7/32 ,  G03F7/42 ,  H01L21/027

FI (4件)：

H01L21/304 647A ,  C11D7/32 ,  G03F7/42 ,  H01L21/30 572B

Fターム (9件)：

2H096AA25 ,  2H096LA03 ,  4H003DA15 ,  4H003DB01 ,  4H003EB13 ,  4H003ED28 ,  4H003ED29 ,  4H003ED31 ,  5F046MA02