特許
J-GLOBAL ID：200903003375579469
射出成形機の適正成形条件導出システム及び方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石戸 久子 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-266698
公開番号（公開出願番号）：特開2001-088187
出願日： 1999年09月21日
公開日（公表日）： 2001年04月03日
要約：
【要約】【課題】 試射することなく、成形条件補正及び流動解析を繰り返すことにより、時間・コストの面における無駄を無くし、より適正な成形条件を導出する射出成形機の適正成形条件導出システムを得る。【解決手段】 射出成形機の適正成形条件を導出するシステムにおいて、初期成形条件決定部11が算出した成形条件34に基づいて、流動解析部13が成形中の各種パラメータ及び成形完了後の各種パラメータを予測し、さらに流動解析部13による予測結果より得られる成形不良の判定結果に基づいて、成形条件補正部15が、成形不良の原因を推定し、推定された原因から成形条件34を補正し、補正された成形条件34により流動解析部13が流動解析を行い、こうして流動解析及び成形条件補正を繰り返すことにより適正な成形条件34を導出する射出成形機の適正成形条件導出システム及び方法を提供する。
請求項（抜粋）：
射出成形機の適正成形条件を導出するシステムにおいて、所定の情報に基づいて流動解析に用いられる成形条件(34)を算出するための成形条件決定手段(11)と、成形条件(34)に基づいて、成形中の各種パラメータ及び成形完了後の各種パラメータを予測する流動解析手段(13)と、前記流動解析手段(13)による予測結果より得られる成形不良の判定結果に基づいて、成形不良の原因を推定し、推定された原因に基づいて、前記流動解析手段(13)により用いられた前記成形条件(34)を補正し、新たな成形条件(34)として前記流動解析手段(13)に出力する補正手段(15)とを備えたことを特徴とする射出成形機の適正成形条件導出システム。
IPC (3件)：
B29C 45/76
, G05B 13/02
, G05B 13/04
B29C 45/76
, G05B 13/02 M
, G05B 13/04
4F206AM32
, 4F206JA07
, 4F206JL02
, 4F206JP01
, 4F206JP18
, 4F206JP26
, 5H004GA27
, 5H004GB15
, 5H004HA16
, 5H004JA03
, 5H004JA12
, 5H004JA21
, 5H004JB08
, 5H004KC22
, 5H004KC27
, 5H004KD52
, 5H004KD57
, 5H004MA47
