特許

J-GLOBAL ID：200903003380094090

活性汚泥処理装置

発明者： 山田 豊 ,  間処 威俊 ,  和泉 清司 ,  師 正史 ,  添田 祐二 ,  塗師 雅治
出願人/特許権者： 株式会社クボタ
代理人 (1件)： 森本 義弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-072180
公開番号（公開出願番号）：特開平8-267083
出願日： 1995年03月30日
公開日（公表日）： 1996年10月15日
要約：

【要約】【構成】 曝気槽1の内部に浸漬型膜分離装置3を設置した活性汚泥処理装置において、曝気槽1の容量と浸漬型膜分離装置3の大きさを、同一水平断面に占める曝気槽1の面積が浸漬型膜分離装置3の面積の3倍以上となるように設定し、浸漬型膜分離装置3を周囲に適当間隔をあけて配置する。【効果】 散気装置により生起される水流を各浸漬型膜分離装置の内部と外側とにわたってスムーズに循環させられるので、膜カートリッジの膜面洗浄と曝気槽全体の活性汚泥混合液への酸素供給とを好適に行える。

請求項（抜粋）：

曝気槽の内部に、膜カートリッジの下方に散気装置を配置してなる浸漬型膜分離装置を設置した活性汚泥処理装置であって、前記曝気槽の容量と前記浸漬型膜分離装置の大きさを、同一水平断面に占める曝気槽の面積が浸漬型膜分離装置の面積の3倍以上となるように設定し、浸漬型膜分離装置を周囲に適当間隔をあけて配置したことを特徴とする活性汚泥処理装置。

IPC (2件)：

C02F 3/12 ZAB ,  C02F 1/44 ZAB

FI (2件)：

C02F 3/12 ZAB N ,  C02F 1/44 ZAB F

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 浄化槽用膜装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-039764   出願人：東陶機器株式会社
• リニヤリテイ補正装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-210851   出願人：三菱電機株式会社
• 特開平4-244294