特許

J-GLOBAL ID：200903003380452469

含フッ素陰イオン界面活性剤

発明者： 安藤 正明 ,  出山 和仁 ,  友田 英幸 ,  小濱 弘之
出願人/特許権者： 株式会社ネオス
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-240745
公開番号（公開出願番号）：特開平7-060096
出願日： 1993年08月31日
公開日（公表日）： 1995年03月07日
要約：

【要約】【目的】 繊維、金属、樹脂等の表面改質剤、フッ素系高分子の乳化重合用乳化剤、帯電防止剤、分散剤、等として有用な含フッ素陰イオン界面活性剤、及びその製法を提供する。【構成】 一般式(1):【化1】(式中、Xはアルカリ金属を示す。)で表される含フッ素陰イオン界面活性剤。一般式(2):【化2】(式中、Xは、アルカリ金属を示す)で示すヒドロキシベンゼンスルホン酸2アルカリ塩を非水極性溶媒に溶解、あるいは分散し、次いでヘキサフルオロプロペン三量体を徐々に添加することにより得られる一般式(1)の含フッ素陰イオン界面活性剤の製造方法。

請求項（抜粋）：

一般式(1):【化1】(式中、Xはアルカリ金属を示す。)で表される含フッ素陰イオン界面活性剤。

IPC (7件)：

B01F 17/12 ,  C07C303/32 ,  C07C309/42 ,  C08K 5/42 KBU ,  C09K 3/00 ,  C09K 3/16 108 ,  C11D 1/22