特許
J-GLOBAL ID：200903003381123990
ドライエッチング装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
伊藤 求馬
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-329455
公開番号（公開出願番号）：特開平8-158072
出願日： 1994年12月02日
公開日（公表日）： 1996年06月18日
要約：
【要約】【目的】 被エッチング材の各部におけるエッチング速度を任意に制御でき、中央部と外周部とでエッチング速度の均一化が可能なドライエッチング装置を提供することである。【構成】 密閉容器1内に、被エッチング材4に対向して高周波電極2を配し、中空とした電極2の内部を複数室22、23に仕切る。各室22、23の被エッチング材4に対向する面にそれぞれガス吹出し口71、72を形成する一方、各室22、23にはガス導入管5、6をそれぞれ独立に接続し、上記ガス導入管5、6のそれぞれに任意の組成のガスを供給する。
請求項（抜粋）：
密閉容器内に、被エッチング材と対向する電極を配し、中空とした上記電極内をガス導入路とするとともに、上記電極の、被エッチング材に対向する面に複数のガス吹出し口を設けて、該ガス吹出し口から容器内に導入されるガスによりエッチングを行なうドライエッチング装置において、上記電極の内部を複数室に仕切り、各室の被エッチング材に対向する面にそれぞれガス吹出し口を形成するとともに、各室にガス導入管をそれぞれ独立に接続し、上記ガス導入管にそれぞれ任意の組成のガスを供給するようになしたことを特徴とするドライエッチング装置。
IPC (2件)：
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