特許
J-GLOBAL ID:200903003385313181

電解コンデンサ用エッチング箔の製造装置、および電解コンデンサ用エッチング箔

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-378407
公開番号(公開出願番号):特開2007-180346
出願日: 2005年12月28日
公開日(公表日): 2007年07月12日
要約:
【課題】静電容量を向上でき、かつ、静電容量のばらつきを圧縮可能な電解コンデンサ用エッチング箔の製造装置、および電解コンデンサ用エッチング箔を提供する。【課題手段】電解コンデンサ用エッチング箔の製造装置10では、エッチング槽20内に、液吐出口から吐出されたエッチング液の流れを電極2の間に向かわせる複数のフィン4(41,42)が配置されている。第1のフィン41と第2のフィン42とは、複数枚の電極2が配列されている方向でずれており、かつ、フィン41,42のいずれにおいても、複数枚の電極2が配列されている方向で隣接する2つのフィンでは、一方のフィンがアルミニウム箔1の幅方向への略延長線上に配置され、他方のフィンが電極2の幅方向への略延長線上に配置されている。【選択図】図1
請求項(抜粋):
走行するアルミニウム箔の上流側から下流側に向かって複数枚の電極が相対向するようにエッチング槽内に配列され、当該複数枚の電極の各間を前記アルミニウム箔が走行する電解コンデンサ用エッチング箔の製造装置において、 前記エッチング槽には、エッチング液循環用の液吸込口と液吐出口とが構成されているとともに、前記エッチング槽内には、前記液吐出口から吐出されたエッチング液の流れを前記電極の間に向かわせる複数のフィンが配置されていることを特徴とする電解コンデンサ用エッチング箔の製造装置。
IPC (4件):
H01G 13/00 ,  H01G 9/04 ,  C25F 7/00 ,  C25F 3/04
FI (5件):
H01G13/00 371G ,  H01G9/04 304 ,  C25F7/00 C ,  C25F7/00 L ,  C25F3/04 A
Fターム (3件):
5E082AB09 ,  5E082BC38 ,  5E082LL25

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